Gravure au plasma

La gravure au plasma est une technique de gravure sèche utilisée en micro fabrication. Elle consiste à faire subir à une échantillon un bombardement de gaz ionisé afin d'en retirer une ou plusieurs couches de matériaux.



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Micro-électronique - Électronique

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La gravure au plasma est une technique de gravure sèche utilisée en micro fabrication (micro-électronique). Elle consiste à faire subir à une échantillon (wafer) un bombardement de gaz ionisé (plasma) afin d'en retirer une ou plusieurs couches de matériaux. Cette méthode de gravure est purement physique (par opposition aux gravures chimiques), au sens où il n'y a pas de réaction chimique entre le plasma et l'échantillon, mais que cette gravure résulte seulement du bombardement de l'échantillon par les ions du plasma.

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